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高性能直讀光譜儀OE750的全面金屬分析控制
作者:華儀宏盛
2020年04月08日
OE750的新光學系統設計的一個優點是啟動時間短。由于光學系統體積小,不到一小時的時間便可啟用儀器。可在需要檢查100%來料的情況下,助力實現高批量生產。 除了新的光學設計之外,OE750還有其他支持大批量金

 

      OE750的新光學系統設計的一個優點是啟動時間短。由于光學系統體積小,不到一小時的時間便可啟用儀器。可在需要檢查100%來料的情況下,助力實現高批量生產。

      除了新的光學設計之外,OE750還有其他支持大批量金屬分析的技術特性。它有一個新的密封火花臺,具有優化層流設計,可降低氬氣消耗,降低污染的可能性,并大大降低維護要求。帶有低壓氬氣吹掃的獨特中壓系統可減少泵的使用。這可將泵的功耗降低90%,并避免油氣污染,從而增加可靠性和儀器的正常運行時間。這使得OE750具有高可靠性和低運行成本。

      除創新性硬件技術外,新型OE750還包括可提高性能的軟件。例如,它包括日立牌號數據庫,該數據庫包含來自69個國家的339,000多種材料的1,200多萬條記錄和標準,減少了人工查閱牌號目錄的時間和潛在錯誤。作為選擇方案,它配有SPC/LIMS包,能夠輕松有效監控該儀器所涉過程以及由其控制的過程。這是滿足IATF 16949等標準要求的理想工具。

 

      日立OES產品業務開發經理Wilhelm Sanders表示:“在過去,金屬加工企業在購買儀器時,不得不在高分析性能和可接受價格范圍之間作出選擇。現在有了新型OE750,他們無需想出折中方案了。OE750能憑借一套可使用的解決方案提供全面的金屬分析。”

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